半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
该项目背景图
该企业主非常专业生育半导体技术用高纯氟化氢和六氟化钨,生产废水氟氧化还原电位高超且化学成分比较复杂。原来补救生产技术视觉效果不不稳,氟化物尾气排放标准隔三差五超预算。大型项目投资2一千万元基本建设帮忙补救体系,设计补救技能500吨/天。
化工废水组成及来源于
工业废水通常出自于生产加工机器设备洗和尾气洗洁:
氟阴离子含量:1500-3500mg/L
含磷酸根化合物:2000-5000mg/L
pH值:1-
含轻微钨、钼等金属材料设计元素
治疗工艺技术过程
共性高含量优势,分为"中合+层级滤渣+膜操作"生产技术:
废水处理处理工艺获得池:划分获得各不相同氧浓度废水处理处理工艺
与不良反应池:分步骤污泥脱水氢硫化钠和氢硫化钙,调控最终能够pH至7.5-8.
斜管石雕文化沉淀池生理反应池:添加PAC和PAM加强石雕文化沉淀目的
斜管析出池:高效化固液隔离
多导电介质滤出器:删去的细小粉末
反融于系統:深入脱盐和除氟
活性生活污水浓缩咖啡缺水系統:离心力缺水后活性生活污水清运的专业救治
网络监测数据系统化:实时风控风控氟铝离子有机废气浓度和pH值
不可能成效
补救平台执行统计资料:
入水氟阴离子平衡浓硫酸浓度:2800mg/L
出水量氟阴离子浓度值:3.2mg/L(平均水平)
氟弄掉率:99.9%以内
水工业废水处理率:高达65%
模式定时化系数高,控制污废水 办理成本预算影响30%,年回报氟化钙副企业产品约400吨。