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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

建设项目经验 本业务应用于长半圆省市某国家地区级半导产业化校园内,品牌通常种植8英尺和12英尺晶圆,日产尼桑量可达到2万片。逐渐的生产效率升降,改变的污水办理机系统已没办法满意环保型规范,急用升到升级改造。业务总加盟约1五百万元,结构设计办理效率为300吨/日,于202在一年竣工投入使用。 电镀废水的成分及种类 该企业晶圆片区工艺程序会产生的废水处理方法主要的包涵左右因素: 水刀切割过程中 中选择的研磨抛光液剩余的物,其主要材料为二阳极氧化硅粒子、表面上可溶性剂和可挥发增添剂 晶圆从表面难以清理发生的含氟生产废水,氟铁离子含量在80-120mg/L 少许巨资属铝离子如铜、镍等,來来自分割方式磨损情况 有机肥料萃取剂杂质,其中包括异丙醇、异丙醇等 pH值起伏较少,通常情况下在4-10当中 处置鑫霖环保步骤流程 根据废液性状,开发通过"物理化学预办理+什么是生化办理+宽度办理"的搭档工艺技术: 自动调节池 :平衡土质的水量,布置pH再线监测方案和主动加量系统性 沥青混凝土沉淀物 :加药系统PAC和PAM,出掉自动隐藏物和胶体溶液成分 气浮标段 :用于溶气气浮加工过程进一次清掉渺小颗粒状和一些有机酸物 生化学解决 :主要采用MBR膜怪物不起作用器,飞灰含量保护在8000-10000mg/L 的深度操作 :活力炭吸附剂+反渗入工艺流程,抓实喷水符合标准 厌氧颗粒污泥操作 :板框厢式压滤机过滤,污水含水分率减至60%之下 补救效果好 设计稳固进行后,满水后饮用水基本达标《智能电子轻工业水污染问题物释放细则》(GB39731-2020)越来越释放最大限度耍求: COD<30mg/L 氟正离子<5mg/L 悬屏物<10mg/L 高价属各种因素均降至规定值 工程一年可抑制污染问题物进行排股票放量约COD 32吨、氟化物8.5吨,工业废水处理水率可达75%这些,为企业避免浪费水电费收入支出约130万元/年。

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