该项目后台 成都某半导体芯片厂制造环节中同时制造高硅废气（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废气（F⁻ 200-300mg/L）。两类废气相溶后容易达成氟硅酸固体，专统化学发展法未能动态平衡达到基准。品牌必须同时进行避开硅和氟（排卸基准：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理方法化学物质及起源 一般因素 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 渠道 ：晶圆刻蚀废渣、CMP研磨产品废渣、产品清洗阴道水 操作的工艺工作流程 分工协作发展时间段 ： 两极症状池 ： 一号级污泥脱水Ca(OH)₂转化成CaF₂和CaSiO₃沉淀出的； 其二级污泥脱水PAC（聚合反应氯化铝）淬炼水解酸化池。 固液溶合的阶段 ： 超滤膜控制系统 ：用0.02μm粒径膜插件虚报冒领电解质溶液硅和微细悠长岁月中物。 深层脱氟分阶段 ： 亲水性硫化铝树脂吸附塔 ：残存氟亚铁离子吸洗去。 最中实际效果 水流SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远远高于我国标准的。 反渗透装置装置通量安全稳定在15LMH，物理化学的洗涤周期时间调长至60天。 污泥处理经压滤后水分含量率＜65%，可按普遍固体废物处理应急处置。